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紅外測溫儀
半導(dǎo)體測溫儀
半導(dǎo)體測溫儀此處特指用于外延生長的專用的，工藝應(yīng)用成熟的紅外測溫儀?？紤]到晶體生長使用的紅外測溫儀應(yīng)用已經(jīng)普遍，故該分類不再展現(xiàn)類似產(chǎn)品。
用于外延生長的測溫儀包括BASF Exactus ，貼牌BASF產(chǎn)品的Photrix系列。 其中BASF的產(chǎn)品在意法半導(dǎo)體、北微、晶盛等公司的外延爐上已經(jīng)有廣泛的應(yīng)用，Photrix系列產(chǎn)品早已集成在Aixtron G4爐子上。
Aixtron 測溫配件
Photrix系列
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Photrix-固定鏡頭型
信噪比極佳，測溫下限可低至75℃，上限可高達(dá)2600℃的數(shù)字式高溫計。非常適用于閉環(huán)控溫。 -
Photrix-光纖鏡頭型
Photrix-光纖鏡頭型高溫計通過柔性光纜將儀器與遠(yuǎn)程的固定焦距鏡頭連接。該配置非常適合測量附近有環(huán)境干擾的應(yīng)用，例如使用感應(yīng)加熱的過程 -
Photrix-光管型
單晶藍(lán)寶石用作光學(xué)鏡頭，又稱光導(dǎo)管，可以最大程度地發(fā)揮Photrix在侵蝕性的化學(xué)環(huán)境非接觸測溫的性能。該配置常用于真空處理室和反應(yīng)器中。 -
Photrix-光管光纖型
儀器通過柔性光纜與遠(yuǎn)程的藍(lán)寶石光管相連，Photrix這種結(jié)構(gòu)設(shè)計非常適用于需要高精度但光路受限的感應(yīng)加熱處理(例如，真空處理或窄視場)
BASF Exactus系列
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EX-S-3FP
BASF Exactus? EX-S-3FP高溫計主要用于類LPE公司SIC外延設(shè)備的控溫系統(tǒng),常見測溫范圍130-2200℃，精度高達(dá)1.5℃, 重復(fù)性0.1℃。 -
EX-C-7FL
BASF Exactus? EX-C-7FL紅外測溫儀測溫范圍覆蓋100-1800℃，精度高達(dá)1.5℃, 重復(fù)性0.1℃。適配AIXTON G3, AIXTRON G4， AIXTRON G5的MOCVD的Bottom測溫系統(tǒng)。 -
EX-S-2PY
BASF Exactus? EX-S-2PY紅外測溫儀主要用于硅晶圓的外延生長研究，也常被用作高溫黑體爐的標(biāo)準(zhǔn)器，其測溫精度高達(dá)1.5℃, 重復(fù)性0.1℃。 -
EX-S-7PY
BASF Exactus? EX-S-7PY紅外測溫儀主要用于SIC或其他晶圓的高溫氧化、退火及RTP工藝，常用測溫范圍250-2600℃，精度高達(dá)1.5℃, 重復(fù)性0.1℃。 -
EX-S-DPY
BASF Exactus? EX-S-DPY雙色紅外測溫儀測溫范圍覆蓋380-3000℃，精度高達(dá)1.5℃, 重復(fù)性0.1℃。該型號測溫儀采用雙色測溫原理，溫度測量在很大程度上不受物體的發(fā)射率的影響. -
EX-ET-222
BASF Exactus? EX-ET-222光管型紅外測溫儀測溫范圍覆蓋250-1300℃，精度高達(dá)1.5℃, 重復(fù)性0.1℃。可適配AMAT RTP等測溫系統(tǒng)。